8月31日，由日本目臼光学公司与信息学院光电技术开发公司共同开发、研制的投影光刻物镜在信息学院光电公司现场完成拍摄试验。在8英寸（φ200nm）的硅片上进行试拍的结果是：全视场分辨率达到2.5μ（微米），畸变小于±1.0μ，完全达到设计预期的要求。
　　该投影物镜的数值孔径NA＝0.08，通光口径φ280nm，采用汞灯的I线（波长365.01nμ）暴光，一次暴光面积为8英寸，物镜的整体重量超过300Kg，它主要用于新一代大面积、高集成度微电子器件如大面积液晶板的制作等。在光学镜头中属要求最高的系统，对光学大球面大口径透镜的加工、测试、相应的镜筒与镜座加工和装配调试等技术均提出了很高的要求。公司自去年12月起，组建了余中如、沈亦兵教授为主的技术班子，历时8个月完成了镜头的研制及相应的配套试拍装置。
　　该镜头的研制成功是中、日两国工程技术人员合作研发高技术产品的典范，也充分表明了信息学院光电公司在光刻镜头的研制上达到了国内最高水平和国际先进水平。

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